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Copper was etched from the uncoated areas of the FR4 board using an etchant bath containing a ferric chloride etchant solution of strength 42° Baume supplied by RS.
铜被蚀刻从FR4电路板的涂层领域的腐蚀剂浴使用含有三氯化铁蚀刻剂的力量解决42 °波美由RS供应。
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Copper was etched from the unprinted areas of the FR4 board using an etchant bath containing a ferric chloride etchant solution of strength 42° Baume supplied by RS.
铜被蚀刻从FR4电路板的未印刷领域使用的蚀刻剂浴含有三氯化铁蚀刻剂的力量解决42 °波美由RS供应。
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Facing the front of the car, you will see a beautifully fashioned photo etched grille.
表面车的前面，你将会见到一个美好地形成的被蚀刻格子的光。
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The protective layer remaining on the portion of the etched flowable insulation layer is removed.
去除留在被蚀刻的易流动绝缘层的该部分上的保护层。
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A protective layer over the semiconductor substrate is formed to fill the portion of the etched flowable insulation layer.
在半导体衬底上形成保护层，以填充被蚀刻的易流动绝缘层的该部分。
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A fabulous little photo-etched latching hinge was added to the hood and a rear license plate bracket, almost invisible due to its scale size, was fashioned to replicate the way the car was initially delivered at Nickey Chevrolet.
一个被蚀刻以闩栓住枢钮的传说小光被加上引擎盖和一个后面的牌照托架，几乎看不见由于它的标度规模，被形成复制车最初在 Nickey 雪芙兰被递送的方式。
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The gauges and tach are killer and check out the photo etched race wheel center.
规和 tach 是凶手并且检查被蚀刻座圈环轮心体的光。
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SI analysis concluded that this bird's beak is the result of TIL and high-k etches undercutting the polysilicon.
SI分析的结论是&鸟嘴&是多晶硅蚀刻时TIL与high-K也被蚀刻侧凹的结果(与原文的字面意义略有出入---译者)。
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The photo-etched wipers are carried over, thankfully, and they are flawless.
被蚀刻雨刷的光被过次页，感谢的，而且他们是毫无瑕疵的。
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During etching fine details of the etch-resist pattern can be seriously compromised if either the unexposed etch-resist is incompletely removed or if some of the exposed and polymerised etch-resist is removed prior to chemically etching the metal or alloy.
在本蚀刻蚀刻的细节，抵制模式可以将受到严重损害，如果不是未曝光蚀刻，抵制是一种不完全删除或如果揭露和聚合性蚀刻，抵制被删除之前，化学蚀刻的金属或合金一些。
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adsorb：吸附
此先以化学溶液(HF/HNO3)蚀刻(Etching) 去除部份切削痕迹 再经去离子纯水贴在研磨垫(Polishing Pad)磨擦 并同时滴入具腐蚀性的化学溶剂当研磨液让面 这些粒子在失去部份的动能后被芯片表面晶格吸附 (Adsorb) 通常芯片会以热的
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delay：延迟
"推动"(boost)或"延迟"(delay)参数的工具,也可以在参数渐增过程中逐步采用. 自Bosch交换式工艺商业问市以来,从简单的诱导式电感耦合等离子(ICP)刻蚀系统开始被应用,到目前最新的深层反应离子刻蚀(DRIE)系统,己经有了相当多的演变发展.
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Deneb：天鹅座( 天津四
那是一片被重质量的星所发出的恒星风以及辐射所蚀刻, 近看一些被蚀刻的云气有些藏新星形成的 徵兆. 塘鹅星云被归类为IC 5070,大约距离我们 2,000 光年远,只要在北方的天鹅座天津四 (Deneb)就可以找到它.
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dolerite：粗粒玄武岩
干峡谷之斜坡充满了砂岩、粗粒玄武岩(Dolerite)及偶而可见的火山岩等,被长期风化及蚀刻的特殊岩石外貌,并只有少量且干燥的土壤. 该地区曾被美国的太空总署(NASA),作为登陆火星前,最佳的模拟研究场所.
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etch：刻蚀
在刻蚀芯片 (photolithography) 的过程中,极高频的紫外线、X-射线或电子束会被用于刻蚀 (etch) 特徵大小 (feature size) 小於 0.15 微米的电路. 今后二十年,硅片将会被分子计算机 (molecular) 和生物芯片 (bio chips) 取代.
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spectral sensitivity：光谱灵敏度
通常使用一较短波长的雷射,因为它对光阻计上的涂膜有较高的光谱灵敏度(spectral sensitivity). 暴光之后,利用蚀刻溶剂加以显影,由於过度暴光的区域被蚀刻掉,只留下轻微暴光的区域. 此外,三维电视的观念已经引起很多人的兴趣,
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stirring：搅拌
其影响被蚀刻物之蚀刻速率(etchingrate)的因素有三:蚀刻液浓度、蚀刻液温度、及搅拌(stirring)之有无. 定性而言,增加蚀刻温度与加入搅拌,均能有效提高蚀刻速率;但浓度之影响则较不明确. 举例来说,以49%的HF蚀刻SiO2,
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striation：条纹
于工作层之最上层上形成光致抗蚀剂以界定蚀刻位置;蚀刻移除工作层未被光致抗蚀剂覆盖之部分以形成开口;于开口侧壁形成一间隔层;以及蚀刻基底对应开口之部分,以形成一浅沟槽. 通过本发明之蚀刻方法,可避免一般掩模蚀刻所造成的条纹(striation)现象.
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notching：刻痕
在对硅进行蚀刻时会出现氧化硅等绝缘膜的结构中,沟槽底部的绝缘膜表面发生绝缘物带电,会导致离子偏移,使侧壁的下面部分被蚀刻. 这称为刻痕(Notching). 并且,即使表面为绝缘物,仍可能发生绝缘物带电,从而影响离子的轨迹,使其发生称为侧向偏移(Bowing)的变形.
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Tenting：盖孔法
前者当初系以镀金、镀锡铅再经蚀刻方式为主,然因产生总浮空(Overhang)等问题,陆续有使用干膜(Dry Film)的盖孔法(Tenting) 或塞孔法出现. 1980年代后半,利用电着光阻的析出方式(Electro-Deposited Process;ED法)成功被开发,