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Key words: LIGA technology; lithography; mask; electroform
关 键词： LIGA技术；光刻；掩膜；电铸
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At the same time of theory research, the fabrication: photoengraving, sputtering, diffusion scraping and polishing surface, light testing and alignment of electrodes is studied by experiment deeply.
型电极结构来调制2×2光波导开关；在进行理论研究的同时，本文对光开关的工艺制作：光刻，溅射，扩散，抛磨端面，套刻电极等每一步工艺都进行了深入详细的实验研究。
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Photolithography ; Photoresist ; Development ; Silicon dioxide ; Hydrofluoride acid
光刻；光刻胶；显影；二氧化硅；氢氟酸
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litho：光刻
litho 光刻 | lithographicequipment 光刻装置 | lithographicimagery 光刻成象
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lithography：光刻
[北京]优纳科技与其日本控股公司共同完成无掩模(Maskless)光刻(Lithography)设备的研发,成为国内第一台基于数字微反射(DMD)技术实现的无掩模光刻的设备,该设备可广泛应用于纳米电子,平板显示,半导体,MEMS,μTAS,LCD,s生物芯片,
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photoengraving：光刻
photoemulsion 照相乳胶 | photoengraving 光刻 | photoexcitation 光致激发
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photoetching：光刻
photoeletric scanning 光电扫描 | photoetching 光刻 | photographic memory 照相存储器
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photolithograph：照相平版印刷 ;光刻
photolineament 摄影线性要素 | photolithograph 照相平版印刷 ;光刻 | photolithography 光刻法;照相平板印刷
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photolithographic：光刻
光弹性学 photoelasticity | 光刻 photolithographic | 光刻线 photolithographic beam
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photolithography：光刻
在半导体或LCD制造过程中,光刻(photolithography)是最关键也是最困难的步骤. 光阻剂、蚀刻液与显影液需透过旋转喷涂/浸渍喷涂方式,才可以在晶圆与玻璃基板面板上完成制造(fabrication). 面对强酸碱化学物质与高温等极为严苛的制造环境,
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photolithography: n.1：照相平版印刷(术) 2.光刻(蚀)法
silicon chip: n.硅(基)片 | photolithography: n.1.照相平版印刷(术) 2.光刻(蚀)法 | etching: n.蚀刻,浸蚀(法)
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lithographic process：光刻
lithographic mask 光刻掩模 | lithographic process 光刻 | lithographic resolution 光刻清晰度
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photoetch：光刻
photoengraving machine 照相制版机 | photoetch 光刻 | photoflash 照相闪光灯