photolithography [,fəutəuli'θɔgrəfi]
- photolithography的基本解释
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n.
影印石版术, 照相平版
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The next part is photolithography, which is a critical step in process integration.
接下来是离子注入的相关知识,包括杂质的分布形式与常用元素的介绍。
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To reproduce by means of photolithography;make a photolithograph of.
报道新闻最安全的方法是重复权威人物的言辞。
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Based on this reason, how to reduce the effect of reflect light is a research issue in the advanced photolithography techniques.
所以,在先进微影技术中,如何有效的抑低反射光是其研究主题。
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In the present invention, such conductor layer is formed by using small number of process steps and without using photolithography process.
在本发明中,这种导体层是用少量工艺步骤形成的而没有用光刻工艺。
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One of the procedures used in making monolithic integrated circuits which overcomes this problem is photolithography based on photoresists.
用于做克服这问题的独块巨石的集成电路的过程之一是基于光致抗蚀剂的照相平版印刷。
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photolithography:光刻法
微小化及平行化的形成式制成晶片,三者中以基因晶片技术最为成熟.基因晶片依DNA样品制备的方式不同又可分为数种.第一种是Affymetrix公司研发出的光学光刻法(photolithography)与化学合成法相结合的光引导原位合成法(light-directed synthesis),
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photolithography:影印石版术
即用制作电晶体或积体线路等所需之标准影印石版术(photolithography)制成. 在按照需要所选定之材料上,依所欲的方向予以割切. 然后加以磨平,使成平滑的基板. 磨平的程度视需要而定. 一般说来,元件之频率愈高,基板表面之容许粗糙程度(roughness)愈小.
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photolithography:照相平版印刷
传统制作印刷电路板(PCB)主要是利用网版印刷(screen printing)及照相平版印刷(photolithography)方式,这两种制程方式价格及解析度上虽可符合需求,但往往需依照客户需求的产品特性来微调生产的流程,故调控提高产能利用率并确保交期顺畅与弹性,
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photolithography:光刻
在半导体或LCD制造过程中,光刻(photolithography)是最关键也是最困难的步骤. 光阻剂、蚀刻液与显影液需透过旋转喷涂/浸渍喷涂方式,才可以在晶圆与玻璃基板面板上完成制造(fabrication). 面对强酸碱化学物质与高温等极为严苛的制造环境,
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contact photolithography:接触光蚀刻
contact pad 接触点 | contact photolithography 接触光蚀刻 | contact potential 接触电势
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