etch [etʃ]

etch的基本解释

vt.

蚀刻, 蚀镂

• The visit to the country was etched deeply in his mind.
• 对这个国家的访问给他留下了深刻的印象。

• The artist must have spent hours etching the image on the glass.
• 这位美术家一定花了好几小时把这画像蚀刻在玻璃上。

• This terrible event is etched forever in my memory.
• 这一可怕事件永远深深地印刻在我的记忆中。

vi.

施行蚀刻法

n.

腐蚀剂

etch的同义词

v. stamp · impress · engrave · imprint

与etch相关的网络例句 [注：此内容来源于网络，仅供参考]

The morphologies of the CdZnTe etch pits developed by four etchants including Nakagawa, Everson, EAg1 and EAg2 solutions are studied. The results show that the etch pits of EAg2 etchant on the (111) B surface are flat-bottomed. And the etch pits of Everson etchant on (111) B include flat-bottomed pits and pyramidal pits with different slant directions, while the positions of pyramidal pits don′t move as the surface layer is continuously removed.

对碲锌镉晶体常用的Nakagawa、Everson、EAg1和EAg2四种腐蚀剂在碲锌镉材料（111）晶面上的腐蚀坑坑形进行了研究，结果发现，EAg2腐蚀剂在（111）B面上的腐蚀坑为平底坑，Everson腐蚀剂在(111)B面上产生的腐蚀坑包括平底坑和带有不同倾斜方向坑底的三角锥形坑，进一步的研究还表明，三角锥形坑并未沿着坑底的倾斜方向向下延伸。

Furthermore, the photo-tool containing the negative image of the desired etch pattern is often distanced from the etch-resist layer and diffraction of the UV light irradiation can lead to development and polymerisation in unwanted areas of the etch-resist directly beneath the photo-tool masked areas.

此外，有大量的照片工具载有所需的蚀刻模式的负面形象往往是远离了蚀刻，抵制层和紫外光照射可导致衍射发展和聚合在etch中不想要的区域，抵制照片下方的直接工具蒙面地区。

During etching fine details of the etch-resist pattern can be seriously compromised if either the unexposed etch-resist is incompletely removed or if some of the exposed and polymerised etch-resist is removed prior to chemically etching the metal or alloy.

在本蚀刻蚀刻的细节，抵制模式可以将受到严重损害，如果不是未曝光蚀刻，抵制是一种不完全删除或如果揭露和聚合性蚀刻，抵制被删除之前，化学蚀刻的金属或合金一些。

与etch相关的网络解释 [注：此内容来源于网络，仅供参考]

etch：蚀刻

ating)→蚀刻(Etch)→半检IQC→丝印阻焊油墨和字符油墨(SS)或贴阻焊干膜→热风整平或喷锡(HAL)→外形(Pounching)→成检(FQC)→电测试E-TEST→包装(Packaging流程中"化学镀薄铜 --> 电镀薄铜"这两道工序可用"化学镀厚铜"一道工序替代,

etch：腐蚀

这是因为有些薄膜在被离子撞击后,它对腐蚀(etch)的抵抗力或被氧化的速率会改变. 利用这种特性,我们可以直接在这些薄膜上用FIB来为图案. 例如在氧化矽的薄膜上打入氢离子、氚离子或氦离子可增加它的腐蚀率,

etch：刻蚀

在刻蚀芯片 (photolithography) 的过程中,极高频的紫外线、X-射线或电子束会被用于刻蚀 (etch) 特徵大小 (feature size) 小於 0.15 微米的电路. 今后二十年,硅片将会被分子计算机 (molecular) 和生物芯片 (bio chips) 取代.

etch：腐蚀,运用物理或化学方法有选择的去除不需的区域

71. equipment downtime:设备状态异常以及不能完成预定功能的时间. | 72. etch:腐蚀,运用物理或化学方法有选择的去除不需的区域. | 73. exposure:曝光,使感光材料感光或受其他辐射材料照射的过程.

alkaline etch：龄咬

rinse水洗 | alkaline etch龄咬 | desmut剥黑膜