蚀刻
- 与 蚀刻 相关的网络解释 [注:此内容来源于网络,仅供参考]
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engraving machine
刻模机,雕刻机
engraving etching | 蚀刻 | engraving machine | 刻模机,雕刻机 | engraving machines | 雕刻机
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etched Vert
直刻
Etched Printed Circuit 蚀刻印刷电路 | etched Vert 直刻 | ETen 倚天
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modified
修正
当微带天线只有一个靠近靠近辐射边缘的蚀刻槽时, 它的共振模态是受此蚀刻槽微扰(pertubed)的修正(modified) TM10模态. 而当另一对蚀刻槽加到靠近非辐射边缘, 与原蚀刻槽共同形成对称於x轴之π型结构蚀刻槽后,这样的双频带微带天线,
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photoetching
光刻法
photoetching 光刻 | photoetching 光刻法 | photoetching 光蚀刻
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photolithography
光刻
在半导体或LCD制造过程中,光刻(photolithography)是最关键也是最困难的步骤. 光阻剂、蚀刻液与显影液需透过旋转喷涂/浸渍喷涂方式,才可以在晶圆与玻璃基板面板上完成制造(fabrication). 面对强酸碱化学物质与高温等极为严苛的制造环境,
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resistless etching
无光刻胶腐蚀
resistivity profile 电阻率分布 | resistless etching 无光刻胶腐蚀 | resistless lighography 无光刻胶蚀刻
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resistless patterning
无光刻胶图像形成
resistless lighography 无光刻胶蚀刻 | resistless patterning 无光刻胶图像形成 | resistor 电阻器
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stirring
搅拌
其影响被蚀刻物之蚀刻速率(etchingrate)的因素有三:蚀刻液浓度、蚀刻液温度、及搅拌(stirring)之有无. 定性而言,增加蚀刻温度与加入搅拌,均能有效提高蚀刻速率;但浓度之影响则较不明确. 举例来说,以49%的HF蚀刻SiO2,
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striation
条纹
于工作层之最上层上形成光致抗蚀剂以界定蚀刻位置;蚀刻移除工作层未被光致抗蚀剂覆盖之部分以形成开口;于开口侧壁形成一间隔层;以及蚀刻基底对应开口之部分,以形成一浅沟槽. 通过本发明之蚀刻方法,可避免一般掩模蚀刻所造成的条纹(striation)现象.
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xylophagous
蚀木穿孔的
蚀刻术etching | 蚀木穿孔的xylophagous | 蚀木的xylophagous
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overturned:倒转的
倒转的 inverted | 倒转的 overturned | 倒转点 inversion point
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remind sb of/about sth:使某人想起
9. on the go 忙碌, (整天)奔忙 | remind sb. of / about sth. 使某人想起... | have fun 取乐
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projective limit space:射影极限空间
program space counter 程序空间计数器 | projective limit space 射影极限空间 | projective metric space 射影度量空间