蚀刻

abrasion

磨蚀

(1)"洁净"(Clean)钻石:无任何明显的内部瑕疵的钻石.(2)"不洁"(Pigue)钻石:具明显包裹体的较常见钻石.外部的瑕疵统一用绿色笔划,主要有:磨蚀(Abrasion)、多余刻面(Extra Facets)原晶面(Natural)、伤痕(Nick)、小白点(Pit)、磨痕(Pol

self alignment

自对准

记忆元件的形成采用了基于自对准(Self Alignment)技术的"Wall"架构. 在钨触头(W Contact)上设置薄膜纵向加热器元件,然后在其上面直接形成GST,最后自对准地进行蚀刻并制出位线(Bit Line). 通过采用Wall架构,可加大光刻的定位边缘(Positioning Margin).

bombardment

轰击

较低能量的轰击(bombardment)对晶圆与腔体较为有利,能减低损伤(例如刻面faceting)以及在腔体表面堆积喷溅的可能. 由於超低介电常数材料较二氧化矽多孔与疏松,所以软式蚀刻更能保存其物理整体性. 此理亦适用於下一世代的光阻,

engraving

雕刻版画

实际上,在西方从来就没有把凹版版画称为铜版画的,而是以具体的技法命名,如雕刻版画(Engraving):干刻版画(Dryp. int):蚀刻版画(Et. hing):感光版画(Photoengravin:):美柔汀(Mezzotint):拼贴版画(Collagraph)等,这种叫法是比较科学的.

eroded

缺刻状的

erode 蚀 腐蚀 | eroded 缺刻状的 | erodedfield 冲刷土地 侵蚀土地

estuary carrier

海湾区航运船,河口区航运船

515 溃蚀腐蚀,冲蚀 errosion | 516 海湾区航运船,河口区航运船 estuary carrier | 517 蚀刻剂 etching solution

photoetching,photoengraving

影印版

photoetching 光刻 光刻法 光蚀刻 | photoetching,photoengraving 影印版 | photoetchingmachine 光刻机

photolithographic mask

光刻用掩模

photolayer 光敏层 | photolithographic mask 光刻用掩模 | photolithographic resolution 光刻蚀清晰度

scouring

冲蚀

亦即侵蚀或刻蚀辅之以对岩石的擦划(scratching)和冲蚀(scouring). 象用砂纸将岩石打磨过一样,给留下平滑、光溜的表面. 磨损也表示碎屑物自身在搬运过程中的磨损,并因而变得越来越小. 研究声音在水中的传播.

etching liquids

侵蚀液

etching figure 蚀刻图 | etching liquids 侵蚀液 | etching machines 蚀刻设备

Greco-Latin square：希腊拉丁方格

Granduation of curve 曲线递合 | Greco-Latin square 希腊拉丁方格 | Grand lot 大批

cunningham：帆前角下拉索

斜拉器:kicking strap | 帆前角下拉索:cunningham | 调整索:outhaul