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蚀刻

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Asher

一种干法刻蚀方式

8. ARC: anti-reflect coating 防反射层 | 9. ASHER: 一种干法刻蚀方式 | 10. ASI 光阻去除后检查

byproduct

副产物

B.激发光终点侦测器(Optical Emission End Point Detector)用一光谱接受器,接受蚀刻反应中某一反应副产物(Byproduct)所激发之光谱,当蚀刻反应逐渐完成,此副产物减少,光谱也渐渐变弱,即可侦测得其终点.

corrasion

刻蚀

corral 畜圈 | corrasion 刻蚀 | corrected value 改正值

Deneb

天鹅座( 天津四

那是一片被重质量的星所发出的恒星风以及辐射所蚀刻, 近看一些被蚀刻的云气有些藏新星形成的 徵兆. 塘鹅星云被归类为IC 5070,大约距离我们 2,000 光年远,只要在北方的天鹅座天津四 (Deneb)就可以找到它.

diameter

孔径

均需要透过黄光显影与蚀刻步骤形成Via,目前则以深反应离子蚀刻(Deep Reactive Ion Etching;DRIE)技术为主,Via孔径(Diameter)多在20μm以下,受限目前技术孔径 ...3-3 后制程步骤与结果 依据MEMS元件在CMOS标准制程中制作的先后顺 序分类,

dilate

扩张

(b)试利用MATLAB程式求此影像蚀刻(ERODE)运算之结果﹐蚀刻运算时边缘部份请使用填补运算来处理. (c )试利用MATLAB程式求此影像扩张(DILATE)运算之结果﹐扩张运算时边缘部份请使用填补运算来处理.

acid etch

酸浸蚀, 酸刻蚀, 酸洗

acid ester | 酸性酯 | acid etch | 酸浸蚀, 酸刻蚀, 酸洗 | acid ethyl oxalate | 草酸氢乙酯

plasma etcher

等离子刻蚀机

plasma engine 等离子体发动机 | plasma etcher 等离子刻蚀机 | plasma etching 等离子体腐蚀

photolithographic resolution

光刻蚀清晰度

photolithographic mask 光刻用掩模 | photolithographic resolution 光刻蚀清晰度 | photolithography 光刻法

photolithographic resolution

光刻蚀清楚度

photolithographic mask 光刻用掩模 | photolithographic resolution 光刻蚀清楚度 | photolithography 光刻法

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