蚀刻
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Etch Factor
蚀刻因子,蚀刻函数 (台) 蚀刻系数
Etchback 回蚀 (台) 凹蚀阴影 | Etch Factor 蚀刻因子,蚀刻函数 (台) 蚀刻系数 | Etching Indicator 蚀刻指标 (台) 蚀刻指示图
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etched
蚀刻 蚀刻
etched Vert 直刻 直刻 | etched 蚀刻 蚀刻 | evaluate Statement 评估陈述式 评估陈述式
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etcher
蚀刻师
etchant 蚀刻剂 | etcher 蚀刻师 | etching 蚀刻
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Etching Resist
抗蚀阻剂 (台) 抗蚀刻
Etching Indicator 蚀刻指标 (台) 蚀刻指示图 | Etching Resist 抗蚀阻剂 (台) 抗蚀刻 | Eutetic Composition 共融组成 (台) 共晶组成
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Etching Indicator
蚀刻指标 (台) 蚀刻指示图
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蚀刻指标 (台)
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Etching Indicator
蚀刻指针 (台) 蚀刻指示图
Etch Factor 蚀刻因子,蚀刻函数 (台) 蚀刻系数 | Etching Indicator 蚀刻指针 (台) 蚀刻指示图 | Etching Resist 抗蚀阻剂 (台) 抗蚀刻
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etchant
蚀刻剂
当要在Cl2与BCl3之间选择适合的主要蚀刻剂(etchant)时,则必须根据HfOx/SiO2的选择比来做选择. 图三中显示出在BCl3化学特性中,以不同的电浆源功率下的温度函式来表示HfOx的蚀刻率. 一般来说,蚀刻率会随着电浆源功率的增加而增加.
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etchants
蚀刻剂
Etch:刻蚀 | Etchants蚀刻剂 | Etched features 蚀刻特点
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etchants
腐(浸)蚀剂,蚀刻剂
esters 酯类 | etchants 腐(浸)蚀剂,蚀刻剂 | etching 蚀刻,浸蚀
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