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薄膜

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etch

腐蚀

这是因为有些薄膜在被离子撞击后,它对腐蚀(etch)的抵抗力或被氧化的速率会改变. 利用这种特性,我们可以直接在这些薄膜上用FIB来为图案. 例如在氧化矽的薄膜上打入氢离子、氚离子或氦离子可增加它的腐蚀率,

hybridize

杂交

将跑完电泳后凝胶上DNA片段转移到另一个薄膜(membrane)上,使这段片段DNA变质(denature). 因为双股DNA已经固定在薄膜上,所以变质后无法再形成双股螺旋. 将上述薄膜暴露在杂交探针(probe)里,让探针和DNA杂交(hybridize). 探针是被会产生放射线、或可以放出颜色或萤光的物质标记的单股DNA或RNA片段.

imperfection

缺陷

绝缘层覆矽(silicon-on-insulator, SOI)技术是在绝缘的二氧化矽基板上,沉积一层导电的矽薄膜,然而随著科学家将矽薄膜越做越薄,薄膜上的缺陷(imperfection)会在两种材料的边界捕捉电荷载子(电子及电洞),导致导电性降低已成为一大隐忧.

irradiation

照射

该方法用激光照射(irradiation)并在有被激光照射的半导体薄膜的基板上由非晶或多晶薄膜在希望的位置以希望的尺寸进行. 本发明的单晶硅膜制造方法包括:在透明或半透明基板上形成半导体层或金属薄膜的阶段;

lamination

层压

这是一种有机太阳能电池,其中的光电薄膜是通过二萘嵌苯(perylene)染料和液晶hexbenzocoronene在溶液中直接进行自我装配而得到的,该光电薄膜是垂直分层的. 通常这种光电薄膜需要采取多次蒸发和层压(lamination)的处理步骤才能得到.

lt

低温

用分子束外延(MBE)法在GaAs(100)衬底上生长GaSb薄膜,得到了GaSb薄膜的优化生长工艺条件.为了降低因晶格失配度较大所引起的位错密度,采用低温(LT)GaSb作为缓冲层,研究了缓冲层的生长速率对GaSb薄膜二维生长的影响,

OPP

取向聚丙烯

这条生产线还能加工埃克森美孚取向聚丙烯(OPP)薄膜,和其它软底层,如聚酯、取向聚酰胺和取向高密度聚乙烯(HDPE)薄膜. 埃克森美孚化工公司的薄膜业务有许多装置,分布在维尔通,荷兰的凯尔克拉德(Kerkrade);意大利的布林迪西(Brindisi);

reflectance

反射率

出售 Essential Macleod光学薄膜设计 它是一款光学薄膜设计和分析软件, 可以计算给定光学薄膜的特性参数,不但包括反射率(reflectance)、透射率(transmittance)和位相(phase),还包括颜色(color), 超...

sputtering

溅射

在讲座中,郑教授首先讲述了超导、铁电和庞磁阻等钙钛矿过渡金属氧化物薄膜的物理基础和研究意义,介绍了国内外超导材料尤其是超导薄膜材料的研究进展和应用方向等基本情况,综述了如脉冲激光沉积(PLD)、溅射(sputtering)、分子束外延(MBE)等各种先进的超导薄膜制备方法,

sputtering

溅射法

纳米复合薄膜的制备方法是多种多样的,一般来说,只要把制备常规薄膜的方法进行适当的改进,控制必要的参数就可以获得纳米复合薄膜,比较常见的制备方法有等离子体化学气相沉积技术(PCVD)、溶胶-凝胶法(sol-gel)和溅射法(Sputtering)热分解化学气相沉积

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