电镀
- 与 电镀 相关的网络解释 [注:此内容来源于网络,仅供参考]
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additive process
相加过程,可加过程
additive plating 添加电镀;附加电镀层 | additive process 相加过程,可加过程 | additive white Gaussian noise 加性白高斯噪声
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adhesion
附着力
电镀端子的检验是电镀完成后不可缺少的工作,只有检验合格的产品才能交给下一工序使用. 通常驻的检验项目为:膜厚(thickness),附着力(adhesion)
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aluminum oxide
氧化铝
其应用在汽车零无电镀钴薄膜镀层(Thin Electroless Cobalt Deposits)应用在电子工业上Carbide),碳化矽(Silicon Carbide),氧化铝(Aluminum Oxide)的微粒子在无电镀浴中与金属共同析出(Co-deposit)得到更硬、更耐磨耗或更具润没有附著性(nonadherent),
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anodize
阳极处理
阳极处理(Anodize)就是电镀的意思(才怪),应该是要去工厂才行欧?阳极处理(Anodize)就是电镀的意思,应该是要去工厂才行欧?
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barrel plating
镀
一般机械五金零件、电子零件如果体积不大,构造坚固易于滚动的时候,在需要作电镀表面处理的时候,滚筒电镀 (Barrel Plating)即滚镀是最佳的选择,不必像吊镀一个一个的以人工挂上吊架,人工贵每工时产量又低.
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silicon carbide
碳化硅
其应用在汽车零无电镀钴薄膜镀层(Thin Electroless Cobalt Deposits)应用在电子工业上Carbide),碳化矽(Silicon Carbide),氧化铝(Aluminum Oxide)的微粒子在无电镀浴中与金属共同析出(Co-deposit)得到更硬、更耐磨耗或更具润没有附著性(nonadherent),
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CMP
(化学机械研磨)制程
其中关键性制程包括有:低介电常数介电膜之乾式蚀刻及清洗制程、溅镀填充铜扩散阻障层及电镀铜晶种层、铜电镀制程以及铜化学机械研磨制程(CMP). #F#图二:以0.18微米元件线幅之五层铜/低介电常数介电膜导线结构之示意图.
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Polyurethane Resin
聚氨酯树脂
6100电镀底漆是由改性聚氨酯树脂(polyurethane resin)、溶剂(dissolvent)、助剂(addtive)等与异氨酸酯树脂(isocyanate resin)组成,主要用作塑胶真空电镀底漆,可改善塑胶基材表面的平坦4生,增进电镀层的密着及光泽.
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Cathode sputtering
陰極濺射法
合金镀层较难控...第十五章 非导体及塑胶电镀 15.1非导体金属化方法(Method of Metalizing Nonconductors) 非导体金属化除了电镀(Electroplating)方法外还有如真空电镀(vacuum metalizing) 、阴极溅射法(cathode sputtering)及金属喷射法(me
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Electro - phoresis
电泳动,电渗,电子构装 (台) 电泳
Electroless Deposition 无电镀,化学镀 (台) 无电电镀,化学镀,非电解电镀 | Electro - phoresis 电泳动,电渗,电子构装 (台) 电泳 | Etchback 回蚀 (台) 凹蚀阴影
- 推荐网络解释
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overturned:倒转的
倒转的 inverted | 倒转的 overturned | 倒转点 inversion point
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remind sb of/about sth:使某人想起
9. on the go 忙碌, (整天)奔忙 | remind sb. of / about sth. 使某人想起... | have fun 取乐
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projective limit space:射影极限空间
program space counter 程序空间计数器 | projective limit space 射影极限空间 | projective metric space 射影度量空间