电沉积

mounting

鑲埋

第二阶段是将实体电路转移到晶圆上,其中包括膜沉积(金属膜,介电质膜..),氧化,扩散,离子布植,微影与光蚀刻技术,等制程方式,重复数十或数百次;第三阶段是积体电路元件的组装(Package),包括切割,镶埋(Mounting),接线,封装,测试

space charge

空间电荷

因此吸收系数极(4) TCO 层(transparent conducting oxide layer)─作为金属化学气相沉积(MOCVD)制程,也有设备商提供电荷的分离是藉由P-N 接面的空间电荷(space charge)洞再结合的问题,电

sputtering

溅射

在讲座中,郑教授首先讲述了超导、铁电和庞磁阻等钙钛矿过渡金属氧化物薄膜的物理基础和研究意义,介绍了国内外超导材料尤其是超导薄膜材料的研究进展和应用方向等基本情况,综述了如脉冲激光沉积(PLD)、溅射(sputtering)、分子束外延(MBE)等各种先进的超导薄膜制备方法,

thin-skinned tectonics

薄皮构造

所谓"随电荷递增电薄皮构造 薄皮构造(thin skinned tectonics)是瑞克(J.L.Rick,1934年)提出. 前陆沉积盖层在基底上滑脱变形,基底没有被卷入,盖层变形的褶皱-逆冲带向下终止于地质构造 地壳中的岩层地壳运动的作用发生变形与变位而遗留下来的形态.

Recessed

嵌入式

此种嵌入式(recessed)的阻障层可以防止后续沉积电容介电层时或其它高温过程中遭到氧化,因此可以避免阻障层与储存电极直接接触时可能造成的漏电流与可靠度不佳的问题.

sedimentation test

沉降试验

sedimentation potential 沉积电势 | sedimentation test 沉降试验 | sedimentation tester 沉降试验器

uniovular twin：真孪生

uncompetitative inhibition 非竞争性抑制 | uniovular twin 真孪生 | unit membrane 单位膜

play off one against the other：挑拨离间, 从中得利

play off (难分胜负的)延长赛 使出丑 嘲弄 以...冒充 假装有病 | play off one against the other 挑拨离间, 从中得利 | play off one against another 挑拨离间, 从中得利