电刻
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蚀刻剂
当要在Cl2与BCl3之间选择适合的主要蚀刻剂(etchant)时,则必须根据HfOx/SiO2的选择比来做选择. 图三中显示出在BCl3化学特性中,以不同的电浆源功率下的温度函式来表示HfOx的蚀刻率. 一般来说,蚀刻率会随着电浆源功率的增加而增加.
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