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电介质

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interleaving, memory bank

存储器组交错

interleaving memory 存储器交错 | interleaving, memory bank 存储器组交错 | interlevel dielectric 夹层电介质

Metallization

金属化

但Chipworks的分析结果显示,两者在金属化(metallization)与电介质(dielectric)结构上有相当大的差异. 其他差异已详列于Chipworks针对是次分析所出版的报告. 当这些元件已投入量产,相信有关差异对Virtex-5在效能、成本或功耗上的影响将值得关注.

pore

气孔

"我们目前采用碳掺杂氧化硅的方式来加大晶格,这相当于插入了大小为2纳米的气隙,我们称之为气孔(pore). 这种碳掺杂技术可使我们现有的低k介电常数降至3以下. 我们现正评估几种提高气孔尺寸的方案,比如把气孔建构在电介质分子中,

precipitation

沉淀反应

沉淀反应 (precipitation)一种血清学反应. 可溶性抗原与相应抗体结合,在有适量电介质存在下,经过一定时间,形成肉眼可见的沉淀物. 沉淀反应的抗原可以是多糖、蛋白质、类脂等. 同相应抗体比较,抗原的分子小,单位体积内含有的抗原量多,

time domain refractometry calibration

时域折设计校准

time dependent dielectric breakdown test电介质随时间变化破坏试验 | time domain refractometry calibration时域折设计校准 | time effects时间效应

sheet iron

薄钢板

sheet dielectric 片状电介质 | sheet iron 薄钢板 | sheet steel 薄钢板

Electronic Speculum

电镜

电介质物理 Dielectric Physics | 电镜 Electronic Speculum | 电力电子电路 Power Electronic Circuit

Principle of Turbosupercharger

涡轮增压器原理

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Principle of Turbosupercharger

涡轮增压器事理

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Princ iple of Turbosupercharger

涡轮增压器原理

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