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多孔障板式三色显象管, 荫罩(式)彩色显象管

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贱金属电阻

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[北京]优纳科技与其日本控股公司共同完成无掩模(Maskless)光刻(Lithography)设备的研发,成为国内第一台基于数字微反射(DMD)技术实现的无掩模光刻的设备,该设备可广泛应用于纳米电子,平板显示,半导体,MEMS,μTAS,LCD,s生物芯片,

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