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掩模

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speckle photometry

黑点 测光

speckle masking 黑点 掩模 | speckle photometry 黑点 测光 | speckle spectroscopy 黑点 分光

striation

条纹

于工作层之最上层上形成光致抗蚀剂以界定蚀刻位置;蚀刻移除工作层未被光致抗蚀剂覆盖之部分以形成开口;于开口侧壁形成一间隔层;以及蚀刻基底对应开口之部分,以形成一浅沟槽. 通过本发明之蚀刻方法,可避免一般掩模蚀刻所造成的条纹(striation)现象.

submicron patterning

亚微米图案形成

submicron mask aligner 亚微米掩模对准器 | submicron patterning 亚微米图案形成 | submicron scale mos device 亚微米尺寸金属氧化物半导体掐

wafer throughput rate

薄片处理速度

wafer stepper projection system 薄片的步进式投影曝光装置 | wafer throughput rate 薄片处理速度 | wafer to mask gap 薄片 掩模间隙

wafer throughput rate

薄片处理速度Lag中国学习动力网

wafer stepper projection system 薄片的步进式投影曝光装置Lag中国学习动力网 | wafer throughput rate 薄片处理速度Lag中国学习动力网 | wafer to mask gap 薄片 掩模间隙Lag中国学习动力网

trimetrogon method

三镜头航摄机摄影法

trimetric projection 三度投影 | trimetrogon method 三镜头航摄机摄影法 | trimic 三掩模集成电路

unreliability function

不可靠性函数

unmanned spacecrait不载人 | unreliability function 不可靠性函数 | unsharp mask 模糊掩模

zero defect silicon

无缺陷硅Lag中国学习动力网

zero defect mask 无缺陷掩模Lag中国学习动力网 | zero defect silicon 无缺陷硅Lag中国学习动力网 | zero deviation 零点误差Lag中国学习动力网

irradiated plasma

辐照等离子体

iron oxide mask 氧化铁掩模 | irradiated plasma 辐照等离子体 | irradiation 照射

lithographic process

光刻

lithographic mask 光刻掩模 | lithographic process 光刻 | lithographic resolution 光刻清晰度

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basement complex:基盘岩群;基盘杂岩

"基盘","basement" | "基盘岩群;基盘杂岩","basement complex" | "基盘岩石","basement rock"

trilateral foramen:三边孔

腋窝 axillary fossa | 三边孔 trilateral foramen | 四边孔 quadrilateral foramen