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拉单晶的

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tensile stress

拉伸应力

4.应变硅(strain silicon)外延:在松弛(relaxed)的SiGe层上面外延Si,由于Si跟SiGe晶格常数失配而导致Si单晶层受到下面SiGe层的拉伸应力(tensile stress)而使得电子的迁移率(mobility)得到增大,而Idsat得增大意味着器件响应速度的提高,

pulled junction

生长结

pulled crystal 拉制的晶体 | pulled junction 生长结 | puller 拉单晶机

epitaxy

外延

许多发光器件使用单晶.根据不同的器件要求,单晶的种类,大小以及生长方法是各种 0 各样的.有的晶体,要在 2000 C高温下用提拉法生长;有的在室温下在溶液中生长;有的在 同类晶片上在气相或液相中外延(epitaxy)生长:有的则因得不到所需尺寸的同类晶片作 衬底,

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