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常数层

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amorphous carbon

非晶碳

王清帆;郑丰绪;陈振隆 本发明揭示一种低介电常数介电质层的蚀刻方法,包括下列步骤:提供一基板,上述基板具有一低介电常数介电质层;于上述低介电常数介电质层上形成一非晶碳(amorphous carbon)植入层;于上述非晶碳植入层上形成一阻剂层;

CMP

(化学机械研磨)制程

其中关键性制程包括有:低介电常数介电膜之乾式蚀刻及清洗制程、溅镀填充铜扩散阻障层及电镀铜晶种层、铜电镀制程以及铜化学机械研磨制程(CMP). #F#图二:以0.18微米元件线幅之五层铜/低介电常数介电膜导线结构之示意图.

locally constant function

局部常值函数

locally connected space 局部连通空间 | locally constant function 局部常值函数 | locally constant sheaf 局部常数层

constant sheaf

常数层

constant pressure surface 等压面 | constant sheaf 常数层 | constant sum game 常和对策

locally constant sheaf

局部常数层

locally constant function 局部常值函数 | locally constant sheaf 局部常数层 | locally contractible space 局部可缩空间

constant sum game

常和对策

constant sheaf 常数层 | constant sum game 常和对策 | constant term 常数项

locally contractible space

局部可缩空间

locally constant sheaf 局部常数层 | locally contractible space 局部可缩空间 | locally convex algebra 局部凸代数

newcomb precession constant

纽科姆旋进常数

neutrosphere 中性层 | newcomb precession constant 纽科姆旋进常数 | newton 牛顿

photoelastic constant

光弹性常数

photoelastic coating 光弹性镀层 | photoelastic constant 光弹性常数 | photoelastic effect 光弹性效应

reactivated structural bed

再活动构造层

反应速度常数 reaction velocity constant | 再活动构造层 reactivated structural bed | 再活动作用 reactivation

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