常数层
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amorphous carbon
非晶碳
王清帆;郑丰绪;陈振隆 本发明揭示一种低介电常数介电质层的蚀刻方法,包括下列步骤:提供一基板,上述基板具有一低介电常数介电质层;于上述低介电常数介电质层上形成一非晶碳(amorphous carbon)植入层;于上述非晶碳植入层上形成一阻剂层;
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CMP
(化学机械研磨)制程
其中关键性制程包括有:低介电常数介电膜之乾式蚀刻及清洗制程、溅镀填充铜扩散阻障层及电镀铜晶种层、铜电镀制程以及铜化学机械研磨制程(CMP). #F#图二:以0.18微米元件线幅之五层铜/低介电常数介电膜导线结构之示意图.
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locally constant function
局部常值函数
locally connected space 局部连通空间 | locally constant function 局部常值函数 | locally constant sheaf 局部常数层
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constant sheaf
常数层
constant pressure surface 等压面 | constant sheaf 常数层 | constant sum game 常和对策
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locally constant sheaf
局部常数层
locally constant function 局部常值函数 | locally constant sheaf 局部常数层 | locally contractible space 局部可缩空间
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constant sum game
常和对策
constant sheaf 常数层 | constant sum game 常和对策 | constant term 常数项
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locally contractible space
局部可缩空间
locally constant sheaf 局部常数层 | locally contractible space 局部可缩空间 | locally convex algebra 局部凸代数
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newcomb precession constant
纽科姆旋进常数
neutrosphere 中性层 | newcomb precession constant 纽科姆旋进常数 | newton 牛顿
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photoelastic constant
光弹性常数
photoelastic coating 光弹性镀层 | photoelastic constant 光弹性常数 | photoelastic effect 光弹性效应
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reactivated structural bed
再活动构造层
反应速度常数 reaction velocity constant | 再活动构造层 reactivated structural bed | 再活动作用 reactivation
- 推荐网络解释
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NHL:abbr. non-hodgkin lymphoma; 淋巴瘤
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complete ordered field:完备有序体
完全的空间n点形 complete n-point in space | 完备有序体 complete ordered field | 完全正(直)交系 complete orthogonal system
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uniform scale:等分标尺
uniform limit 一致极限 | uniform scale 等分标尺 | uniform space 一致空间