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光蚀刻

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Optical Libraries

光盘库,光盘存储库

optical length 光学长度 | Optical Libraries 光盘库,光盘存储库 | optical lithographic resolution 光蚀刻清晰度

photoetching,photoengraving

影印版

photoetching 光刻 光刻法 光蚀刻 | photoetching,photoengraving 影印版 | photoetchingmachine 光刻机

photolithography

光刻

在半导体或LCD制造过程中,光刻(photolithography)是最关键也是最困难的步骤. 光阻剂、蚀刻液与显影液需透过旋转喷涂/浸渍喷涂方式,才可以在晶圆与玻璃基板面板上完成制造(fabrication). 面对强酸碱化学物质与高温等极为严苛的制造环境,

photolithography: n.1

照相平版印刷(术) 2.光刻(蚀)法

silicon chip: n.硅(基)片 | photolithography: n.1.照相平版印刷(术) 2.光刻(蚀)法 | etching: n.蚀刻,浸蚀(法)

resistless etching

无光刻胶腐蚀

resistivity profile 电阻率分布 | resistless etching 无光刻胶腐蚀 | resistless lighography 无光刻胶蚀刻

resistless patterning

无光刻胶图像形成

resistless lighography 无光刻胶蚀刻 | resistless patterning 无光刻胶图像形成 | resistor 电阻器

Reticle

刻线

此外,不仅设计技术不会直接转移至光罩上,光罩刻线(reticle)的形状与刻印在晶圆上的电路也会有所差异,让光罩检验的工作面临严苛的挑战. Numerical的Virtual Stepper软件可支持仿真式的光罩检验作业,能仿真硅组件在光罩以特定蚀刻条件蚀刻后所产生的结果,

dipped beam

近光

dipout furnace | 双用熔炉(熔化及保温) | dipped beam | 近光 | dipped brass | 蚀刻黄铜

photoinactivation

光纯化作用

photohyalography 光照蚀刻术 | photoinactivation 光纯化作用 | photoinduced 光致的,光感生的

satin white

缎光白

缎光釉 satin glaze | 缎光白 satin white | 佐藤蚀刻 Sato etching

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