光刻的

self alignment

自对准

记忆元件的形成采用了基于自对准(Self Alignment)技术的"Wall"架构. 在钨触头(W Contact)上设置薄膜纵向加热器元件,然后在其上面直接形成GST,最后自对准地进行蚀刻并制出位线(Bit Line). 通过采用Wall架构,可加大光刻的定位边缘(Positioning Margin).

electron beam lithography

电子束光刻

M.救机器人却难以产生令人满意的效果,根据美国国家标准技术局(NIST)的研究报告,用(ISM)频段抑或是同时采用其附加的最小化系统间干扰的标准,都不能保证机器人度芯片的电子束光刻(electron beam lithography)工艺要求使用大型设备,

Facet

刻面

顶面(Table Facet)宝石冠部的中央刻面. ...乳房状(mammillated)光滑的圆形. ...刻面(Facet)切磨或抛光宝石的表面.

hydrothermal

热液的

热液的 (Hydrothermal) 指由岩浆的热液活动而引起的矿物的顶面 (Table Facet) 宝石冠部的中央刻面. 乳房状 (Mammillated) 光滑的圆形. 刻面 (Facet) 切磨或抛光宝石的表面. 岩石 (Rock) 由一种或多种矿物组成的材料.

lithography

光刻

[北京]优纳科技与其日本控股公司共同完成无掩模(Maskless)光刻(Lithography)设备的研发,成为国内第一台基于数字微反射(DMD)技术实现的无掩模光刻的设备,该设备可广泛应用于纳米电子,平板显示,半导体,MEMS,μTAS,LCD,s生物芯片,

photolithographic

光刻法的

photokymograph 记录照相机 | photolithographic 光刻法的 | photolithography 影印石版术

photolithography

光刻法

微小化及平行化的形成式制成晶片,三者中以基因晶片技术最为成熟.基因晶片依DNA样品制备的方式不同又可分为数种.第一种是Affymetrix公司研发出的光学光刻法(photolithography)与化学合成法相结合的光引导原位合成法(light-directed synthesis),

photolithography

光刻

在半导体或LCD制造过程中,光刻(photolithography)是最关键也是最困难的步骤. 光阻剂、蚀刻液与显影液需透过旋转喷涂/浸渍喷涂方式,才可以在晶圆与玻璃基板面板上完成制造(fabrication). 面对强酸碱化学物质与高温等极为严苛的制造环境,

photoetch

光蚀刻,光刻[技术];照相板,影印板

photoelectric a.光电的 | photoetch 光蚀刻,光刻[技术];照相板,影印板 | photofabrication 光刻法,照相化学腐蚀制造法

photoinactivation

光纯化作用

photohyalography 光照蚀刻术 | photoinactivation 光纯化作用 | photoinduced 光致的,光感生的

Hydraulic sizer：水力筛分机

hydraulic setting refractory 水凝[性]耐火物 | Hydraulic sizer 水力筛分机 | hydraulicking 水掘法

roadside trees：街头树路树

rna splicing rna 剪接 | roadside trees 街头树路树 | roaring 咆哮