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使绝缘

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borazon

一氮化硼

此次开发成功的低介电率膜使用一氮化硼(Borazon)化合物的改良材料. 一氮化硼由硼(B)和氮(N)组成,采用类似苯环的结构(图2). 并未置换硼中结合的氢(H),而是置换了某些化合物. 将该硼类化合物作为层间绝缘膜使用时,

Icicles

锡尖

除此之外,如果锡渣过量,其可能会影响焊锡波剥离的动态特性,因而生成桥接(bridges)或者锡尖(icicles). 为了使锡渣的生成降至最低,许多不同的方法已为业界所采用. 以下的章节将讨论最为常见者. 这些方法包括表面绝缘、大气排除(atmospheric exclusion)及合金组成.

cadmium sulfide

硫化镉

硫化镉(cadmium sulfide)分子式CdS,分子量144.46,微毒,无放射性,微溶于水和乙醇,溶于酸,极易溶于氨. 硫化镉光导体,突出的优点是静电潜像电位差大,复印出的图像反差大. 因表层加有绝缘膜,使光导体的耐磨性好. 由于对光的灵敏度高,

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