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网络解释

一氧化物

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adhesion

附着

一氧化氮除了可抑制各类型肺伤害所产生的自由基及毒性氧化物 (统称 reactive oxygen species,ROS) 的活性,以及相关酵素的活性外,它也可以抑制因此产生之白血球迁移(migration),附着(adhesion),聚积(aggregation),

anime

芳香树脂

提供了一种用于去除氧化物膜的含阴离子表面活性剂的刻蚀液,及其制备方法以及使用该刻蚀液制造半导体器件的方法. 该刻蚀液包括氢氟酸(HF)、去离子水和阴离子表面活性剂. 阴离子表面活性剂是其中添加了芳香树脂(anime)盐作为平衡离子的化合物,由R

Arsenic Trioxide

三氧化砷

三氧化砷:三氧化砷(Arsenic trioxide)是一种没有味道的白色粉末,是会在半导体扩散炉所发现的一种副产物,制程中其它的氧化物也会出现. GSH:麸胱甘呔(Glutathione)SAM:S-腺核甘甲硫胺酸(S-adenosylmethionine)SAHC:S-腺核甘类胱胺酸(S-adenosylhomocysteine)

blast furnace

高炉

在这一过程中,不仅将诸多铁氧化物中的铁还原到金属状态转入生铁,而且还将其他元素或全部(磷...高炉(blast furnace) 横断面为圆形的炼铁竖炉. 用钢板作炉壳,壳内砌耐火砖内衬. 高炉本体自上而下分为炉喉、炉身、炉腰、炉腹、炉缸5部分.

Catalytic cracking

催化裂化

石油化工催化剂及其工业应用 一、酸碱催化剂 二、过渡金属催化剂 三、过渡金属络合物催化剂 四、氧化物和硫化物催化剂 五、双功能催化剂 六、石油化工中应用的催化材料 思考题第四节 催化裂化一、催化裂化(catalytic cracking)的工艺特点二、催化

nitrogen oxide

氧化氮

我们常提到的一氧化氮(nitrogen oxide)及臭氧是会影响文物的氧化物;一氧化氮是汽车排放的废气及燃烧过程的产物,臭氧存在於自然,它也是光和废气结合的产物,影印过程中就会产生臭氧.

priming

涂底

7-3-2 微影制程 微影制程可说是半导体制程之关键制程, 其步骤如下: (1)表面清洗 (2)涂底(Priming) (3)光阻覆盖 (4)软烤(Soft bake) 程 (5)曝光 (6)烘烤 (7)显影 (8)硬烤 如图(一) 图一主要微影制 图二微影制程 图(二)所示: 表面清洗是去除芯片表面氧化物,

wiring

接线

而矽氧化物正好是一介电体(DUELECTRIC:电的绝缘体). HORNI的电晶体用到一层蒸镀(EVAPORATED)铝,将之形成适当的形状,作为电晶体的接线(WIRING)目的. 此种技术即称为平面技术(PLANAR TECHNOLOGY).

rhodinol

玫瑰醇

一种称做"芳樟醇氧化物"(Linalool Oxide)的商品是多种氧杂环化合物的混和物,这些杂环化合物是下列三种结构的混合物,它们不易直接氧化而得到.香茅醇有两种光学异构体.较早使用的玫瑰醇(Rhodinol)一词,实际上是下面两种结构的统称,

ferrites

铁氧体

铁氧体(BaFeO)、钐钴5(SmCo)等,...铁氧体(ferrites) 铁氧体是一种非金属磁性材料,又叫铁淦氧. 它是由三氧化二铁和一种或几种其他金属氧化物(例如:氧化镍、氧化锌、氧化锰、氧化镁、氧化钡、氧化锶等)配制烧结而成. 它的相对磁导率可高达几千,

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