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photolithography:光刻法

微小化及平行化的形成式制成晶片,三者中以基因晶片技术最为成熟.基因晶片依DNA样品制备的方式不同又可分为数种.第一种是Affymetrix公司研发出的光学光刻法(photolithography)与化学合成法相结合的光引导原位合成法(light-directed synthesis),

photolithography:影印石版术

即用制作电晶体或积体线路等所需之标准影印石版术(photolithography)制成. 在按照需要所选定之材料上,依所欲的方向予以割切. 然后加以磨平,使成平滑的基板. 磨平的程度视需要而定. 一般说来,元件之频率愈高,基板表面之容许粗糙程度(roughness)愈小.

photolithography:照相平版印刷

传统制作印刷电路板(PCB)主要是利用网版印刷(screen printing)及照相平版印刷(photolithography)方式,这两种制程方式价格及解析度上虽可符合需求,但往往需依照客户需求的产品特性来微调生产的流程,故调控提高产能利用率并确保交期顺畅与弹性,

photolithography:光刻

在半导体或LCD制造过程中,光刻(photolithography)是最关键也是最困难的步骤. 光阻剂、蚀刻液与显影液需透过旋转喷涂/浸渍喷涂方式,才可以在晶圆与玻璃基板面板上完成制造(fabrication). 面对强酸碱化学物质与高温等极为严苛的制造环境,

contact photolithography:接触光蚀刻

contact pad 接触点 | contact photolithography 接触光蚀刻 | contact potential 接触电势

contact photolithography:接触光蚀

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precision photolithography:精密光刻

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precision photolithography:紧密光刻

precision measurement 紧密丈量 | precision photolithography 紧密光刻 | precision potentiometer 紧密电位计

e-beam photolithography:电子束显影法

E-beam laser 电子束激光器 | e-beam photolithography 电子束显影法 | E-beam-pumped free-electron laser 电子束抽运自由电子激光器

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