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double exposure:两次曝光

TSMC纳米制像技术发展处资深总监林本坚6月25日在TSMC 2009 Technology Symposium上演讲时表示,193 Immersion Lithography"两次曝光(double exposure)"和"两次(double patterning)"的技术原理仍有潜力可挖,关键在于掩膜、功率源和成本的控制.

cell fate:细胞命运

此讯息传导途径可於发育时期调节身体结构 (body patterning),并且具有决定干细胞命运(cell fate)的能力. 根据其对特定组织和干细胞的影响力,在这些组织的癌化也会随著Wnt 讯息传导途径的异常活化而发生.

Practice of Fraying:冲突之法

完善之法 Practice of Perfecting | 衝突之法 Practice of Fraying | 模造之法 Practice of Patterning

brush furnisher:毛刷给浆辊

brush-dewign machine 转刷给湿机 | brush furnisher 毛刷给浆辊 | brush patterning unit 印花装置

implant:注入

罗门哈斯电子材料公司与IBM公司日前签署了联合开发协议,共同开发电路图案成形(patterning)材料和工艺,为32纳米及其以下节点的注入(implant)提供支持. 这份协议的重点是开发合作,为高级技术节点开发全面的注入解决方案.

patterned film:有图膜

pattern writer 绘图机 | patterned film 有图膜 | patterning 图案形成

Patterson analysis:帕特逊分析

Patterning 图样 | Patterson analysis 帕特逊分析 | Pauli exclusion principle 泡利不相容定理

recursiveness:递归性

对手语的音位phonology、词形态morphology和句法syntax的不同层面的研究证明,手语和其他有声语言一样,符合普遍语法的规律,具备语言的最本质的属性(声音不是最根本的属性之一),如双重结构性(duality of patterning),以及句子结构的递归性(recursiveness)等.

resistless lighography:无光刻胶蚀刻

resistless etching 无光刻胶腐蚀 | resistless lighography 无光刻胶蚀刻 | resistless patterning 无光刻胶图像形成

submicron particle:超微末微粒

submicron metal 超微金属粉末,超细金属粉末 | submicron particle 超微末微粒 | submicron patterning 亚微米图案形成

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Apportioned Effort:分摊努力

Applied Direct Costs 实际直接成本 | Apportioned Effort 分摊努力 | Apportioned Task 分摊任务

tussah silk fabric:柞丝绸

tussah silk carpet 柞丝毯 | tussah silk fabric 柞丝绸 | tussah silk fancy yarn 柞粗纺丝

make sb. do sth.(be made sb.to do sth:使某人做某事

be made for each other 有利于,倾向于 | make sb. do sth.(be made sb.to do sth.)使某人做某事 | to make a speech 做报告.