查询词典 offset lithography

electron beam lithography：电子束光刻

M.救机器人却难以产生令人满意的效果,根据美国国家标准技术局(NIST)的研究报告,用(ISM)频段抑或是同时采用其附加的最小化系统间干扰的标准,都不能保证机器人度芯片的电子束光刻(electron beam lithography)工艺要求使用大型设备,

electron beam lithography：电子束石版印刷术

Electron Beam Fabrication 电子束制作 | Electron Beam Lithography 电子束石版印刷术 | Electron Camera 电子摄影机

the extreme form of explorations：极端探询

强端点:strongly extreme points | 极端探询:the extreme form of explorations | 极紫外投影光刻:Extreme ultraviolet lithography

very high frequency：甚高频

very fine line lithography 超细光刻 | very high frequency 甚高频 | very high frequency circuit 甚高频电路

kerf：划片槽

110. junction spiking n :铝穿刺 | 111. kerf :划片槽 | 113. lithography n 制版

large：大型

此过程如与SLA(Stereo lithography Apparatus)快速原型系统相较,LOM快速原型系统是所有快速原型系统中,效率最高(the most efficient process)的一种快速原型系统,LOM快速原型系统可以制作大型(large)、复杂(compl

litho printings：石版印刷纸

litho blanks 厚型石版印刷纸 | litho printings 石版印刷纸 | lithography 石版印刷术

lithography：光刻

[北京]优纳科技与其日本控股公司共同完成无掩模(Maskless)光刻(Lithography)设备的研发,成为国内第一台基于数字微反射(DMD)技术实现的无掩模光刻的设备,该设备可广泛应用于纳米电子,平板显示,半导体,MEMS,μTAS,LCD,s生物芯片,

lithography：石版印刷术

1798年,奥国(今捷克的布拉格)人作曲家塞纳菲尔德(Alois Senefelder l771-1834) 发明石版印刷术(Lithography),利用水与脂肪互相反拨原理,在平面上印刷,是为 平版印刷术(Planography)的嚆矢.

lithography：平版印刷术

与照相制版术相似,平版印刷术(lithography)可用于在微芯片上印制电路. 现有的平版印刷技术可使芯片制造商做到0.1微米的线宽. 而目前正在开发的EUV平版印刷技术,则可使半导体制造商做到小于0.1微米(最低达到0.03微米)的线宽,

Permanently mounted to American-made 3/4" hose bibb：永久安装在美国制造的3 / 4 "软管比伯

Features: 特点: | Permanently mounted to American-made 3/4" hose bibb永久安装在美国制造的3 / 4 "软管比伯 | Editorial Review: 编辑审查:

Exhale ,forward：呼,前屈

Bend your knees,inhale,reach up to utkatasana;屈膝,吸,双臂上举,幻椅式 | Exhale ,forward; 呼,前屈 | inhale, lift your spine, hands connected; 吸,伸展脊柱,手连接(地面或小腿)