查询词典 offset lithography

dry offset process：干平法制版法

干胶印刷,干平版 dry offset plate | 干平法制版法 dry offset process | 干式摄影 dry photography

dry offset plate：干胶印刷,干平版

干湖 dry lake | 干胶印刷,干平版 dry offset plate | 干平法制版法 dry offset process

ail：abbr. achromatic interferometric lithography; 消色差干涉微影

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photographic barograph：摄影气压仪

摄影反照率 photographic albedo | 摄影气压仪 photographic barograph | 摄影平版印刷 photographic lithography

center of projection：投影中心

cavalier projection 斜等轴侧投影 | center of projection 投影中心 | ion projection lithography 离子投影光刻

double exposure：两次曝光

TSMC纳米制像技术发展处资深总监林本坚6月25日在TSMC 2009 Technology Symposium上演讲时表示,193 Immersion Lithography"两次曝光(double exposure)"和"两次(double patterning)"的技术原理仍有潜力可挖,关键在于掩膜、功率源和成本的控制.

ev : El Salvador：萨尔瓦多(域名)

EUVL Extreme UltraViolet Lithography 极限紫外线刻印 | ev El Salvador 萨尔瓦多(域名) | EV Event Viewer 事件查看器

electro migration：电迁移

本月有几项研究成果涉及的是通过极细微的模具印刷微细布线的"纳米压印印刷(Nano Imprint Lithography)"以及融合电迁移(Electro Migration)的方法(1).

electron beam lithography：电子束蚀刻

由于该技术可实现15纳米的分辨率,和当前最先进的电子束蚀刻(electron beam lithography)技术相比,该技术的运用将大大削减纳米电子设备的制造成本并提高制造效率.

electron beam lithography：电子束曝光

'''电子束曝光'''(electron beam lithography)指使用电子束在表面上制造图样的工艺,是[[光刻]]技术的延伸应用. ...纳米量级,从而为制作[[纳米线]]提供了很有用的工具. 电子束曝光需要的时间长是它的一个主要缺点. 为了解决这个问...

Permanently mounted to American-made 3/4" hose bibb：永久安装在美国制造的3 / 4 "软管比伯

Features: 特点: | Permanently mounted to American-made 3/4" hose bibb永久安装在美国制造的3 / 4 "软管比伯 | Editorial Review: 编辑审查:

Exhale ,forward：呼,前屈

Bend your knees,inhale,reach up to utkatasana;屈膝,吸,双臂上举,幻椅式 | Exhale ,forward; 呼,前屈 | inhale, lift your spine, hands connected; 吸,伸展脊柱,手连接(地面或小腿)