查询词典 lithography

electron beam lithography：电子束蚀刻

由于该技术可实现15纳米的分辨率,和当前最先进的电子束蚀刻(electron beam lithography)技术相比,该技术的运用将大大削减纳米电子设备的制造成本并提高制造效率.

electron beam lithography：电子束曝光

'''电子束曝光'''(electron beam lithography)指使用电子束在表面上制造图样的工艺,是[[光刻]]技术的延伸应用. ...纳米量级,从而为制作[[纳米线]]提供了很有用的工具. 电子束曝光需要的时间长是它的一个主要缺点. 为了解决这个问...

electron beam lithography：电子束光刻

M.救机器人却难以产生令人满意的效果,根据美国国家标准技术局(NIST)的研究报告,用(ISM)频段抑或是同时采用其附加的最小化系统间干扰的标准,都不能保证机器人度芯片的电子束光刻(electron beam lithography)工艺要求使用大型设备,

electron beam lithography：电子束石版印刷术

Electron Beam Fabrication 电子束制作 | Electron Beam Lithography 电子束石版印刷术 | Electron Camera 电子摄影机

lithography：光刻

[北京]优纳科技与其日本控股公司共同完成无掩模(Maskless)光刻(Lithography)设备的研发,成为国内第一台基于数字微反射(DMD)技术实现的无掩模光刻的设备,该设备可广泛应用于纳米电子,平板显示,半导体,MEMS,μTAS,LCD,s生物芯片,

lithography：石版印刷术

1798年,奥国(今捷克的布拉格)人作曲家塞纳菲尔德(Alois Senefelder l771-1834) 发明石版印刷术(Lithography),利用水与脂肪互相反拨原理,在平面上印刷,是为 平版印刷术(Planography)的嚆矢.

lithography：平版印刷术

与照相制版术相似,平版印刷术(lithography)可用于在微芯片上印制电路. 现有的平版印刷技术可使芯片制造商做到0.1微米的线宽. 而目前正在开发的EUV平版印刷技术,则可使半导体制造商做到小于0.1微米(最低达到0.03微米)的线宽,

lithography：平版印刷

(四)平版印刷(LITHOGRAPHY)- 印版上的图文部分与非图文部分都在同一平面上;- 以水和油互相排斥的原理来进行印刷(如下图)何谓[柯式印刷](OFFSET PRINTING)- [柯式印刷]即现时通称的[平版胶印];-以[间接印刷]方法进行[柯式]乃由英文(OFFSET)所翻译而来的,

offset lithography：胶印

胶印(offset lithography) 印版上的图文先印在中间载体(橡皮布滚筒)上,再转印到承印物上的间接印刷方式. 小胶印(small offset printing) 用A2以下的纸张在小型胶印机上进行小批量施印的印刷方式.

ion projection lithography machine：离子投影光刻机

ion projection lithography 离子投影光刻 | ion projection lithography machine 离子投影光刻机 | ion-exchange resin 离子交换树脂

colonial rule：殖民统治

colonial protectorate;殖民保护地;殖民被保护国;; | colonial rule;殖民统治;; | Colonial Secretary;辅政司;;

matrimonial agency：婚姻介绍所

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